清美化學

『壹』 包頭有些什麼廠（公司）

包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司於1995年12月28日成立，目前是由包頭鋼鐵(集團)有限責任公司、日本清美化學株式會社、日本三菱商事株式會社共同出資經營並由包頭鋼鐵(集團)公司控股的高新技術企業。
電話：0472-2692025（辦公室）
傳真：0472-2181136
地址：內蒙古包頭市昆區張家營子西
郵編：014010

『貳』 拋光粉(國內外市場、投資、工藝技術、生產成本、環保影響)

稀土拋光粉的發展現狀及應用

鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉（如 Fe2O3 紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為 「 拋光粉之王 」 。目前該產品在我國發展較快，應用日廣，產量猛增，發展前景看好。鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉（如 Fe2O3 紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為 「 拋光粉之王 」 。目前該產品在我國發展較快，應用日廣，產量猛增，發展前景看好。
我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為 1800 萬噸（以 CeO2 計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1、稀土拋光粉的發展過程
紅粉（氧化鐵）是歷史上最早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展，於二十世紀 30 年代，首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次世界大戰中，一個在伊利諾斯州羅克福德的 W F 和 Barnes J 公司工作的雇員，於 1943 年提出了一種叫做巴林士粉（ Barnesite ）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由於稀土拋光粉具有拋光效率高、質量好、污染小等優點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。
國外於 60 年前開始生產稀土拋光粉，二十世紀 90 年代已形成各種標准化、系列化的產品達 30 多種規格牌號。
目前，國外的稀土拋光粉生產廠家主要有 15 家（年生產能力為 200 噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產能力為 2200 多噸。是目前世界上最大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達 1500 噸以上。日本生產稀土拋光粉的原料採用氟碳鈰礦、粗氯化鈰和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。 1968 年，我國在上海躍龍化工廠首次研製成功稀土拋光粉。隨後西北光學儀器廠、雲南光學儀器廠相繼採用獨居石為原料，研製成功不同類型稀土拋光粉。北京有色金屬研究總院、北京工業學院等單位於 1976 年研製並推廣了 739 型稀土拋光粉， 1977 年又研製成功了 771 型稀土拋光粉。 1979 年甘肅稀土公司研製成功了 797 型稀土拋光粉。目前國內已有 14 個稀土拋光粉生產廠家（年生產能力達 30 噸以上者），最大的一家年生產能力為 2220 噸（包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司）。但與國外相比仍有較大差距，主要是稀土拋光粉的產品質量不穩定，未能達到標准化、系列化，還不能完全滿足各種工業領域的拋光要求，因此必須迎頭趕上。
2 稀土拋光粉的種類
2.1 以稀土拋光粉中C e O 2 量來劃分
稀土拋光粉的主要成分是 CeO2 ，據其 CeO2 量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類 : 一類是 CeO2 含量高的價高質優的高鈰拋光粉 ，一般 CeO2/TREO≥ 80% ，另一類是 CeO2 含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在 50% 左右，或者低於 50% ，其餘由 La2O3 ， Nd2O3 ， Pr6O11 組成。
對於高鈰拋光粉來講 ，氧化鈰的品位越高 ，拋光能力越大 ，使用壽命也增加 ，特別是硬質玻璃長時間循環拋光時 ( 石英、光學鏡頭等 ) ，以使用高品位的鈰拋光粉為宜。
低鈰拋光粉一般含有 50% 左右的 CeO2 ， 其餘 50% 為 La2O3?SO3 ， Nd2O3?SO3 ， Pr6O11?SO3 等鹼性無水硫酸鹽或 LaOF 、 NdOF 、 PrOF 等鹼性氟化物 ，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣 ，因而廣泛用於平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。
2.2 以稀土拋光粉的大小及粒度分布來劃分
稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。對於一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下，顆粒尺寸約為 4μm 的拋光粉磨削速度最大。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少 ，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標准拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬於微粉工程技術， 稀土拋光粉屬於超細粉體，國際上一般將超細粉體分 3 種：納米級 (1nm ～ 100nm); 亞微米級 ( 100nm ～ 1μ m ) ; 微米級 ( 1μm ～ 100μ m ) ，據此分類方法，稀土拋光粉可以分為： 納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉 3 類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在 1μ m～ 10μ m之間 ，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最後工序，進行精磨 ，因此其粒度分布一般不大於 10μ m，粒度大於 10μ m的拋光粉 ( 包括稀土拋光粉 ) 大多用在玻璃加工初期的粗磨。小於 1μ m的亞微米級稀土拋光粉，由於在液晶顯示器與電腦光碟領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬於研發階段。
3、稀土拋光粉生產工藝概述
3.1 生產原料
目前，我國生產鈰系稀土拋光粉的原料有下列幾種 :(1) 氧化鈰 (CeO2) ，由混合稀土鹽類經分離後所得 (w(CeO2)=99%); (2) 混合稀土氫氧化物 (RE(OH)3) ，為稀土精礦 (w(REO)≥50%) 化學處理後的中間原料 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%);(3) 混合氯化稀土 (RECl3) ，從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土 ( 主要含 La ， Ce ， Pr 和 Nd ， w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥50%); (4) 高品位稀土精礦 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) ，有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。以上原料中除第 1 種外，第 2 ， 3 ， 4 種均含輕稀土 (w(REO)≈98%) ，且以 CeO2 為主， w(CeO2) 為 48% ～ 50% 。這些原料均供應充足，這是我國大力發展鈰系稀土拋光粉的物質基礎和優勢。
3.2 生產工藝及設備
3.2.1 高鈰系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離後的氧化鈰為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級 → 過濾 → 烘乾 → 高級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘乾箱。
主要指標 : 產品中 w(REO)=99% ， w(CeO2)=99%; 稀土回收率約 95%; 平均粒經 1μ m～ 6μm( 或粒度為 200 目～ 300 目 ) ，晶形完好。該產品適用於高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
3.2.2 中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體 ( 沉澱劑 ) 使轉化成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉澱 → 洗滌過濾 → 高溫煅燒 → 細磨篩分 → 中級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指標 : 產品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土回收率約 95% ; 平均粒度 0.4μ m～ 1.3μm 。該產品適用於高速拋光，比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
3.2.3 低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土 (w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，以合成中間體 ( 沉澱劑 ) 進行復鹽沉澱等處理，可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 溶解 → 復鹽沉澱 → 過濾洗滌 → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細磨篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 溶解槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指標 : 產品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率約 95%; 平均粒徑 0.5μ m～ 1.5μm( 或粒度 320 目～ 400 目 ) 。該產品適合於光學玻璃等的高速拋光之用。
用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。
其主要工藝過程為 :
原料 → 干法細磨 → 配料 → 混粉 → 焙燒 → 磨細篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。 主要指標 : 產品中 w(REO)≥95% ， w(CeO2)≥50%; 稀土回收率 ≥95%; 產品粒度為 1.5μ m～ 2.5μm 。該產品適合於眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。
目前，國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量最多，約占總產量的 90% 以上。
4、稀土拋光粉的應用
在工業上用於製品的拋光粉應具有一定純度和化學活性；有固定的晶形結構；顆粒均勻和有稜角；有較高的硬度和比重。工業上曾用過的拋光粉有鋁、鋅、鉻、錳、鈦、鋯、硅、鐵和稀土等十多種金屬氧化物。在這些拋光粉中鈰系稀土拋光粉的拋光效果最佳，它已取代了其它拋光粉（如 SiO2 ， ZrO2 和 Fe2O3 ）的應用，故目前將鈰系稀土拋光粉稱為 「 拋光粉之王 」 。
由於鈰系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業製品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密製品等的拋光。
我國已有的三大品級共 11 種牌號的鈰系稀土拋光粉（見表 1 ），它們的具體使用狀況為：
我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為 1800 萬噸（以 CeO2 計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。

級別 牌號 化學成份 /% 平均粒度 / μm 物理性能
( 粒度 / 篩目 ) 比重
� /(g/cm � 3) 規格�
/ 個
REO CeO2 F
( 一 ) 高級鈰稀土拋光粉 高鈰粉 1 型 - 99 - 1 ～ 6 － 6.5 ～ 8.0 1
鈰粉型 - 99 - － 200 ～ 400 7.0 1
A-8 型 - 99 - － 300 ～ 400 6.5 ～ 7.0 3
( 二 ) 中級鈰稀土拋光粉 739 型 90 80 ～ 85 3 ～ 6 0.4 ～ 1.3 － 6.0 ～ 7.1 2
771 型 82 48 － 0.7 ～ 3.0 － 5.8 ～ 7.0 1
795 型 90 50 － － 320 ～ 400 5.8 ～ 6.4 1
797 型 88 48 4 ～ 7 0.5 ～ 1.5 － 5.5 ～ 6.4 3
( 三 ) 低級鈰稀土拋光粉 817 型 90 45 3 ～ 6 － 320 5.8 ～ 6.4 1
877 型 84 48 6 ～ 8 0.5 ～ 2.0 － 6.5 ～ 7.0 1
C 1 型 85 45 4 ～ 7 － 100 ～ 200 6.5 ～ 7.0 2
H-500 型 95 50 － － 1.5 ～ 2.5 5.6 ～ 6.4 3

高鈰系稀土拋光粉，主要適用於精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優良，拋光效果較好，由於價格較高，國內的使用量較少。
中鈰系稀土拋光粉，主要適用於光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高鈰粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低 11% ，拋光速率提高 35% ，製品的光潔度可提高一級，拋光粉的使用壽命可提高 30% 。目前國內使用這種拋光粉的用量尚少，有待於今後繼續開發新用途。
低鈰系稀土拋光粉，如 771 型適用於光學眼鏡片及金屬製品的高速拋光 ;797 型和 C － 1 型適用於電視機顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光； H － 500 型和 877 型適用於電視機顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用於對光學儀器，攝像機和照像機鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內用量最多，約占國內總用量 85% 以上。
5 稀土拋光粉的市場
在稀土拋光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生產 3550 噸～ 4000 噸拋光粉，產值 35 億～ 40 億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中最大的拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀 90 年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，而平面顯示產品產量迅速增加，對鈰基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的 50% 。 90 年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移，如 : 日本清美化學從 1989 年開始在海外生產陰極射線管用鈰基拋光粉。 1989 年在台灣建立了一家獨資企業， 1990 年投入生產，目前的生產能力為每年 1000 噸。 1997 年又與我國包頭鋼鐵公司合資在包頭建立了一家專門生產彩電陰極射線管、電子管和平板玻璃拋光用拋光粉的企業。設計能力為每年 1200 噸，所用原料為高品位氟碳鈰礦和富鈰碳酸稀土。因此，新日本金屬化學公司的陰極射線管用拋光粉因受來自中國大陸和台灣大量低價拋光粉的沖擊也有意從事用於液晶顯示用高性能拋光粉的生產。東北金屬化學公司計劃專門從事光學鏡頭和液晶顯示屏用拋光粉的生產。
6、結束語
我國的稀土拋光粉行業從無到有，從小到大，已走過了近 50 年的歷史。目前我國在生產、應用、市場和技術設備等方面已取得很大的成就和發展，在世界同行業中已佔主導地位，並成為世界稀土拋光粉的生產和供應大國。今後要加快技術設備的創新，提高生產水平。要加速產品標准化和系列化的進程，要增加新品種，提高產品質量，努力提高產品出口量，佔領國際市場。
一種含Ce3+的稀土拋光粉及其制備方法
本發明提供了一種含Ce3+的稀土拋光粉及其制備方法。該稀土拋光粉的Ce3+/Ce(mol比)為0.5-20％。低價鈰在氧化鈰晶格中的存在，促進了Ce4+與Ce3+之間的轉化，增強了拋光過程中拋光粉與玻璃之間羥基水合物軟化層的形成，大大增強了粉體的拋光性能。稀土拋光粉中含Ce3+，拋光粉的懸浮性能好，分散性強，應用到玻璃拋光中切削力大，對玻璃拋光面劃痕少，拋光平整度高。含Ce3+的稀土拋光粉制備工藝流程簡單，工藝容易控制，易於工業化生產。

[200810043912]--高精度稀土拋光粉及其制備方法
本發明公開了一種高精度稀土拋光粉及其制備方法，其特徵在於：D50粒徑為0.50～1.80μm；且滿足：D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；本發明將硝酸鑭鈰或氯化鑭鈰鐠溶液加入pH為4.5～5.5的草酸氨溶液，生成單分散的草酸鑭鈰或草酸鑭鈰鐠沉澱，然後以將其作為晶種，制備所述高精度稀土拋光粉。採用本發明的方法獲得的高精度稀土拋光粉，無需進行氣流粉碎和精密分級，具有中位徑粒小，粒度分布范圍窄的特點，拋光粉的耐磨性和拋光精度穩定性容易控制，產品質量波動小。

[200710045691]--一種液晶顯示器拋光粉的生產方法
一種液晶顯示器拋光粉的生產方法。其步驟如下：室溫下在REO＝80～100克/升、CeO2/REO≥70％的氯化稀土溶液中，攪拌下加含量為30～40％的氟硅酸，5分鍾後加添加劑A，升溫70～80℃並保持溫度，加混合沉澱劑溶液，至反應終點，pH值為7，攪拌10分鍾；靜置3～5小時，虹吸去上清液；攪拌下加冷水至近滿槽，停攪拌前加絮凝劑溶液至出現絮凝效果，靜置、沉降、虹吸去上清液，如此三遍；洗後升溫至98℃保持10分鍾，放料過120目不銹鋼篩；固液分離真空抽濾加離心機脫水；濾餅移入石英材料匣缽，裝料厚度≤9cm，送入900℃隔焰隧道窯，經預熱段失水和一定程度分解轉化後，於900℃高溫段焙燒3～4小時，再過冷卻段降溫至＜400℃出窯；焙燒物冷卻至近室溫，進行分級處理，合格品為產品。

[200810046208]--拋光光學元件的復配拋光粉及制備方法和拋光工藝
本發明拋光光學元件的復配拋光粉及制備方法以及拋光工藝屬於光學元件的拋光用的消耗性材料以及制備方法，以及用該拋光粉的拋光工藝。拋光粉由按重量比為0.5份～3.0份的三氧化二鉻粉，和1.0份的三氧化二鋁粉組成，三氧化二鉻粉的粒度為0.05～0.10微米，三氧化二鋁粉的粒度為0.05～0.10微米。拋光工藝包括1)上光學元件的拋光模、2)填拋光粉、3)放上鏡盤、4)固定鏡盤、5)摩擦拋光。拋光模是由按重量比為500份的拋光瀝青，和20～200份的三氧化二鋁粉組成；該拋光工藝中用本發明的拋光粉和拋光模對硒化鋅光學元件的拋光可達表面光潔度可達到20-10以上。

[200710118800]--一種鈰與非鈰稀土的分離以及鈰基拋光粉的制備方法
本發明涉及一種從混合稀土中分離鈰與非鈰稀土，並副產鈰基拋光粉的技術。本發明採用高溫氟化的方法，向含鈰的混合稀土中加入氟，氟加入比例為CeO2重量比的1-50wt％，200-800℃下高溫氟化0.5-8hr，氟優先與鈰反應形成不溶於酸的鈰氟化合物，加酸溶解後，可溶於酸的非鈰稀土溶解在溶液中，鈰留在渣中，可輕易實現鈰與非鈰分離的目的。優溶渣中為鈰和氟，與鈰基拋光粉的主成分相同，經過洗滌灼燒後可得到粒度均勻的顆粒，D50～2～5μm，符合拋光粉應用的標准。整個流程減少固液分離步驟，降低輔料消耗，設備單產提高，稀土收率提高，生產過程污染小，沒有含F廢水的排放，且將價值較低的優溶渣產品做成了高附加值的拋光粉，極大的提高了生產效益。

[200710065388]--一種超細、球化稀土拋光粉及其制備工藝
本發明提供了一種超細、球化稀土拋光粉及其制備工藝。該工藝通過氨水、碳酸氫銨、碳酸銨中的一種或幾種的混合物為沉澱劑，在沉澱後的漿液中加入銨鹽和氟離子調節母液中的離子強度，從而增大漿液中固體顆粒的表面電性，高溫陳化後，過濾，濾餅乾燥、灼燒、球磨過篩後可以得到分散性好、球化度高、超細的稀土拋光粉。得到的拋光粉平均粒徑在0.02～2.0um之間，0＜比表面積BET＜10m2/g，粉體呈分散好的球形。該粉體用於光學玻璃拋光、晶體拋光、顯示屏拋光等切削力強，劃痕少，使用時間長。

[200710000112]--稀土精礦制備高鈰鈉米量級稀土拋光粉的方法
一種稀土精礦制備高鈰鈉米量級稀土拋光粉的方法，其特徵是：生產步驟為用碳酸氫銨沉澱法從稀土精礦濃硫酸焙燒、水浸液中直接製得混合碳酸稀土；混合碳酸稀土與0.5-2份鹼混合，加熱至600-800℃，使混合物熔融，並於熔融狀態保溫1-4小時，冷卻、粉碎、然後加入HF≥45％的工業氫氟酸，其加入量為稀土精礦粉重量的10％-20％，得到氟氧化稀土富集物；氟氧化稀富集物，粉碎，水洗，濾水，在攪拌機中混合均勻，然後裝入帶篩高能球磨機中，充入氮氣，進行濕粉高能球磨；高能球磨室後篩的下方帶有高壓氣流旋轉通道，篩下的粉在高速氣流推動下，對粉體的水分進行甩干處理，再進行烘乾，得粉粒尺寸≤500nm的到成品拋光粉。

[200710300043]--使用高嶺土生產拋光粉的方法
使用高嶺土生產拋光粉的方法屬於拋光材料的制備技術領域，是一種利用高嶺土為原材料來制備拋光粉的技術。對高嶺土進行磨礦和分級加工，使礦粉最大粒徑控制在5μm以下，然後對其進行脫水、乾燥和煅燒，形成拋光粉；按照本發明的生產方法生產出的高嶺土拋光粉，對光學玻璃的拋光效果達到了國標規定的Ⅵ級標准，能滿足光學玻璃拋光的需要，能拋光硬度小於7.0的各種材料，也可以將生產出的高嶺土拋光粉與樹脂混煉，製成拋光塊，用於大理岩、花崗岩等石材的拋光。

[200510030027]--一種富鈰稀土拋光粉的生產方法
本發明公開了一種富鈰稀土拋光粉的生產方法。包括如下步驟：晶種制備、沉澱獲得碳酸鑭鈰、氟化獲得氟碳酸鑭鈰、焙燒得到富鈰稀土拋光粉。本發明通過採用在碳酸鹽沉澱前加入草酸鹽晶種這一新型生產工藝，使所得到的富鈰稀土拋光粉的單晶顆粒達到1-2微米。採用本發明的方法獲得的富鈰稀土拋光粉，無需進行氣流粉碎和精密分級，拋光粉的耐磨性更好、磨削率更高，拋光精度穩定性更容易控制，產品質量波動較小。

[200610089263]--以二氧化鈰為主體的超細精密拋光粉的制備方法及拋光粉
本發明提供一種以二氧化鈰為主體的超細精密拋光粉的制備方法及拋光粉，在含鈰稀土溶液與沉澱劑溶液的反應中，利用高分子表面活性劑的分子模板作用和其與沉澱劑的協同作用，形成幾何形狀趨於一致的前驅物沉澱顆粒；然後將過濾得到的濾餅進行洗滌和打漿，以對顆粒表面改性，並將最後所得濾餅經乾燥、分解、氣流粉碎分級，制備出粒徑Dmax≤1μm，硬度適中，形貌可控的拋光粉。

[03130446]--稀土拋光粉的制備方法
本發明涉及稀土拋光粉的制備方法。其中主要成分含CeO2，La2O3，Pr6O11，Nd2O3，含鈰量75-85％，包括以下步驟：將廢稀土拋光粉加酸溶解，加入30％的H2O2；用氨水調節pH＝5-6，加入30％的H2O2，加入輕稀土氫氧化物的懸浮液30-80℃使沉澱完全，經水洗乾燥、並在300-1200℃溫焙燒4小時，製得高鈰含量的再生稀土拋光粉。本發明使廢稀土拋光粉得到最大程度的再利用，提高了拋光粉的檔次，其拋光性能良好。節約了資源，減少環境污染，其社會、經濟效益顯著。

[03119524]--失效稀土拋光粉的再生方法
失效稀土拋光粉的再生方法涉及一種對廢舊資源進行再利用的處理方法，特別是通過對失效稀土拋光粉的物理化學處理，使其得以重新利用的方法。本發明的技術方案中主要包含有以下步驟：①在失效稀土拋光粉漿液中，加入一定濃度的水溶性鹼和/或水溶性氟化物進行化學處理，經過一定時間的加熱攪拌後，通過沉降、清洗和過濾工序，回收固體；②將回收的固體進一步熱處理後冷卻到室溫，球磨。回收的稀土拋光粉中，大部分玻璃粉末和其它雜質被有效清除，其物理化學特性得到改善。拋光粉回收率通常可達70-80％，拋蝕量一般可接近或達到50以上，可以繼續用於玻璃製品的拋光。

[97105248]--稀土拋光粉的生產方法
稀土拋光粉的生產方法，按重量計取1份品位為40％－85％的稀土精礦粉和0．5－2份燒鹼混合，加熱至600－850℃，於混物熔融狀態保溫1－3小時後冷卻、粉碎、水洗，得氫氧化稀土富集物，再加入工業氫氟酸將其中的氫氧化稀土氟化得氟氫氧化稀土富集物，然後焙燒、研磨，得稀土拋光粉。本法生產稀土拋光粉成本低，生產周期短，產品於多家眼鏡廠、水晶工藝品廠試用，效果好。

『叄』 包頭有些什麼廠（公司）

包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司於1995年12月28日成立，目前是由包頭鋼鐵(集團)有限責任公司、日本清美化學株式會社、日本三菱商事株式會社共同出資經營並由包頭鋼鐵(集團)公司控股的高新技術企業。 電話：0472-2692025（辦公室） 傳真：0472-2181136 地址：內蒙古包頭市昆區張家營子西 郵編：014010

『肆』 廣東有沒有自己生產光電感測器的廠家

您好，廣東深圳大深感測屬於自主研發生產光電感測器的廠家。

大深感測創始人團隊從歐姆龍辭職，回國創立DASS大深品牌，開始自主研發國產感測器，立志成為中國感測器的代名詞！

深圳大深感測科技有限公司專注光電感測器產品研發及生產於一體， 主營產品包括槽型光電感測器、方型光電感測器、光纖感測器、接近感測器等系列 ，是目前國內少有完整掌握光電感測器核心技術的企業。

強大的研發能力是DASS大深感測器持續發展的堅實基礎。我們引進專業的高端人才隊伍，打造精準的研發管理體系。多年來始終堅持務實、創新、專業、真誠的理念，堅持技術創新，推動產品更新迭代！

大深每一款產品都凝聚著大深人的智慧和汗水，DASS大深從光電感測器進軍市場，抓住產業鏈的細分環節，首創的漫反射零盲區檢測技術，抗強光檢測技術讓光電感測器性能升級！應用范圍更廣泛！得到廣大國內客戶認可！

DASS大深感測一直在努力！立志要做中國本土自己的感測器產品，希望能新基建時代浪潮中與與感測器消費者互惠互利、共同進步，為感測器產業的蓬勃發展出一份力，為民族工業的振興做出一份貢獻！

『伍』 拋光粉的現狀應用

背景情況
鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉（如Fe2O3紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為「拋光粉之王」。該產品在我國發展較快，應用日廣，產量猛增，發展前景看好。
1.1 發展過程
紅粉（氧化鐵）是歷史上最早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展，於二十世紀30年代，首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次世界大戰中，一個在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員，於1943年提出了一種叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由於稀土拋光粉具有拋光效率高、質量好、污染小等優點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。
國外於60年前開始生產稀土拋光粉，二十世紀90年代已形成各種標准化、系列化的產品達30多種規格牌號。
國外的稀土拋光粉生產廠家主要有15家（年生產能力為200噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產能力為2200多噸。是目前世界上最大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達1500噸以上。日本生產稀土拋光粉的原料採用氟碳鈰礦、粗氯化鈰和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠首次研製成功稀土拋光粉。隨後西北光學儀器廠、雲南光學儀器廠相繼採用獨居石為原料，研製成功不同類型稀土拋光粉。北京有色金屬研究總院、北京工業學院等單位於1976年研製並推廣了739型稀土拋光粉，1977年又研製成功了771型稀土拋光粉。1979年甘肅稀土公司研製成功了797型稀土拋光粉。目前國內已有14個稀土拋光粉生產廠家（年生產能力達30噸以上者），最大的一家年生產能力為2220噸（包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司）。但與國外相比仍有較大差距，主要是稀土拋光粉的產品質量不穩定，未能達到標准化、系列化，還不能完全滿足各種工業領域的拋光要求，因此必須迎頭趕上。
1.2組成分類
1.2.1 以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：
稀土拋光粉的主要成分是CeO2，據其CeO2量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類:一類是CeO2含量高的價高質優的高鈰拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一類是CeO2含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在50%左右，或者低於50%，其餘由La2O3，Nd2O3，Pr6O11組成。
對於高鈰拋光粉來講，氧化鈰的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環拋光時(石英、光學鏡頭等)，以使用高品位的鈰拋光粉為宜。
低鈰拋光粉一般含有50%左右的CeO2，其餘50%為La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等鹼性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等鹼性氟化物，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用於平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。
1.2.2以稀土拋光粉的大小及粒度分布來劃分：
稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。對於一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度最大。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標准拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬於微粉工程技術，稀土拋光粉屬於超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：納米級(1nm～100nm);亞微米級(100nm～1μm);微米級(1μm～100μm)，據此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm～10μm之間，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最後工序，進行精磨，因此其粒度分布一般不大於10μm，粒度大於10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小於1μm的亞微米級稀土拋光粉，由於在液晶顯示器與電腦光碟領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。
納米級稀土拋光粉已經問世，隨著現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但市場份額還很小，屬於研發階段。
1.3 生產原料
我國生產鈰系稀土拋光粉的原料有下列幾種：
(1)氧化鈰(CeO2)，由混合稀土鹽類經分離後所得(w(CeO2)=99%)；
(2)混合稀土氫氧化物(RE(OH)3)，為稀土精礦(w(REO)≥50%)化學處理後的中間原料(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；
(3)混合氯化稀土(RECl3)，從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土(主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；
(4)高品位稀土精礦(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。
以上原料中除第1種外，第2，3，4種均含輕稀土(w(REO)≈98%)，且以CeO2為主，w(CeO2)為48%～50%。我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1.4 主要生產工藝及設備
1.4.1 高鈰系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離後的氧化鈰為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘乾→高級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有：煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘乾箱。
主要指標：產品中w(REO)=99%，w(CeO2)=99%；稀土回收率約95%；平均粒經1μm～6μm(或粒度為200目～300目)，晶形完好。該產品適用於高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
1.4.2中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體(沉澱劑)使轉化成w(CeO2)=80%～85%的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉澱→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指標：產品中w(REO)=90%，w(CeO2)=80%～85%；稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm～1.3μm。該產品適用於高速拋光，比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
1.4.3 低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土(w(REO)≥45%，w(CeO2)≥48%)為原料，以合成中間體(沉澱劑)進行復鹽沉澱等處理，可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→溶解→復鹽沉澱→過濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細磨篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備：溶解槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指標：產品中w(REO)=85%～90%，w(CeO2)=48%～50%；稀土回收率約95%；平均粒徑0.5μm～1.5μm(或粒度320目～400目)。該產品適合於光學玻璃等的高速拋光之用。
用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。
其主要工藝過程為：
原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標:產品中w(REO)≥95%，w(CeO2)≥50%；稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm～2.5μm。該產品適合於眼鏡片、電視機顯像管的高速拋光之用。
國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量最多，約占總產量的90%以上。
1.5 應用
由於鈰系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業製品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密製品等的拋光。
1.6 市場
在稀土拋光粉的消費中，日本是最大的消費者，每年約生產3550噸～4000噸拋光粉，產值35億～40億日元，還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中最大的拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期，日本陰極射線管的生產轉向海外，平面顯示產品產量迅速增加，對鈰基拋光粉的需求量也迅速增加。日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%。90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術、設備向海外轉移，如:日本清美化學從1989年開始,在海外生產陰極射線管用鈰基拋光粉。1989年在台灣建立了一家獨資企業，1990年投入生產，生產能力每年1000噸。1997年又與我國包頭鋼鐵公司合資在包頭建立了一家專門生產彩電陰極射線管、電子管和平板玻璃拋光用拋光粉的企業。設計能力為每年1200噸，所用原料為高品位氟碳鈰礦和富鈰碳酸稀土。因此，新日本金屬化學公司的陰極射線管用拋光粉因受來自中國大陸和台灣大量低價拋光粉的沖擊也有意從事用於液晶顯示用高性能拋光粉的生產。東北金屬化學公司計劃從事光學鏡頭和液晶顯示屏用拋光粉的生產。
高鈰系稀土拋光粉，主要適用於精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優良，拋光效果較好，由於價格較高，國內的使用量較少。
中鈰系稀土拋光粉，主要適用於光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高鈰粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%，拋光速率提高35%，製品的光潔度可提高一級，拋光粉的使用壽命可提高30%。目前國內使用這種拋光粉的用量尚少，有待於今後繼續開發新用途。
低鈰系稀土拋光粉，如771型適用於光學眼鏡片及金屬製品的高速拋光;797型和C－1型適用於電視機顯像管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H－500型和877型適用於電視機顯像管的拋光。此外，其它拋光粉用於對光學儀器，攝像機和照相機鏡頭等的拋光，這類拋光粉國內用量最多，約占國內總用量85%以上。
1.7、結束語
我國的稀土拋光粉行業從無到有，從小到大，已走過了近50年的歷史。目前我國在生產、應用、市場和技術設備等方面已取得很大的成就和發展，在世界同行業中已佔主導地位，並成為世界稀土拋光粉的生產和供應大國。今後要加快技術設備的創新，提高生產水平。要加速產品標准化和系列化的進程，要增加新品種，提高產品質量，努力提高產品出口量，佔領國際市場。